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通用原则
1每一种无损检测方法均有其能力范围和局限性，且应保证足够的实施操作空间。本部分所涉及到的各无损检测方法的能力范围和局限性见5.2,通常能检测的一般缺陷见附录A(资料性附录)。
2仅能检测表面开口缺陷的无损检测方法包括渗透检测和目视检测。掺透检测主要用于非多孔性材料；目视检测主要用于宏观可见缺陷的检测。
3能检测表面开口缺陷和近表面缺陷的无损检测方法包括磁粉检测和涡流检测。磁粉检测主要用于铁磁性材料；涡流检测主要用于导电金属材料。
4 可检测材料中任何位置缺陷的无损检测方法包括射线检测、超声检测、衍射时差法超声检
测和X射线数字成像检测。一般而言，超声检测、衍射时差法超声检测对于表面开口缺陷或近表面缺陷的检测能力低于磁粉检测、渗透检测或涡流检测。
5 为确定承压设备内部或表面存在的活性缺陷的强度和大致位置，可采用声发射检测。声发
射检测需要对承压设备进行加压试验，发现活性缺陷时应采用其他无损检测方法进行复验。
6仅能检测承压设备贯穿性缺陷或整体致密性的无损检测方法为泄漏检测。
7对于铁磁性材料，为检测表面或近表面缺陷，应优先采用磁粉检测方法，确因结构形状等原因不能采用磁粉检测时方可采用其他无损检测方法。
8 当采用一种无损检测方法按不同检测工艺进行检测时，如果检测结果不一致，应以危险度大的评定级别为准
9 当采用两种或两种以上的检测方法对承压设备的同一部位进行检测时，应按各自的方法评定级别。
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应针对具体检测对象根据标准和工艺规程编写操作指导书其内容除满足 NB/T 47013.1的要求外，至少还应包括:编制依据;适用范围:被检测工件的类型(形状、结构等尺范(厚度及其他几尺、所用材料的种类;
检测设备器材:射线源(种类、型号，焦点尺寸 )、胶片(牌号及其分类等级 )、增感屏(类型、数量和厚度)、像质计(种类和型号)、滤光板、背散射屏蔽板、标记、胶片暗室处理和观察设备等:
检测技术与工艺:采用的检测技术等级、透照技术(单或双胶片)，透照方式(源-工件-胶片相对位置 )、射线源、胶片、曝光参数、像质计的类型、摆放位置和数量，标记符号类型和放置、布片原则等;
胶片暗室处理方法和条件要求;
底片观察技术(双片叠加或单片观察评定);
底片质量要求:几何不清晰度、黑度、像质计灵敏度、标记等;
验收标准;
操作指导书的验证要求。
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塔式容器
规定了金属制塔式容器的设计、制造、检验与验收等要求。
标准适用范围如下
a) 钢制塔式容器设计压力不大于 35MPa，其他金属材料制塔式容器设计压力相关标准规定:
b) 设计温度范围按金属材料允许的使用温度范围
高度 H 与平均直径 D之比大于 5 的座自支承金属制塔式容器
对于高度 与平均直径 D之比小于等于5 的裙座自支承金属制塔式容器可以参照设计
本标准不适用于下列塔式容器
带有拉牵装置的塔式容器:
由操作平台联成一体的排塔或塔群
带有夹套的塔式容器;
铸铁和非金属制塔式容器。